<form id="tvzrj"></form>
      <address id="tvzrj"></address>

        <noframes id="tvzrj"><address id="tvzrj"></address>

                  中頻磁控濺射鍍膜設備

                  中頻磁控濺射鍍膜設備

                  • 所屬分類:中頻磁控濺射鍍膜設備
                  • 瀏覽次數:
                  • 二維碼:
                  • 發布時間:2021-11-29 16:17:25
                  • 產品概述
                  • 技術參數
                  • 應用案例
                  • 樣品圖片

                  該設備主要是(集)直流磁控濺射,中頻濺射和電弧離子蒸發三種技術融合一體,結合線離化源及泳沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化。膜層各項性能提高,能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發,通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統,開發出整套計算機自動控制系統,使鍍膜膜層附著力強致密度、從復度一致性好等特點,解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、ZrN、TiNC膠各類金鋼石膜(DLC)。

                  1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,把陰極表面磁場擴展到接近工作表面,提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。

                  2、電弧等離子體蒸發源性能可靠,在優化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作,鍍膜膜層和基底界面產生原子擴散,又具有離子束輔助沉積的特點。


                  image.png

                  1.jpg

                  2.jpg

                  3.jpg

                  5.jpg

                  6.jpg



                  上一篇:沒有了
                  下一篇:沒有了

                  近期瀏覽:

                  相關新聞

                  電 話:13685864596

                  傳 真:+86-574-62496001

                  郵 箱:dkzkkj@163.com

                  地 址:浙江省寧波市余姚金牛西路79號